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ガリウムと

 関連する液体金属の奇妙な特性、とりわけ空気中で瞬時にスズ酸化物被膜を涼しげにつくるため、これらの材料は近年化学パターンニングや伸縮性のある自己回復作用のあるエレクトロニクスとして使われている。今回これらの材料を使って、大きな超薄いパターン化した半導体フィルムが工業的にも利用可能な方法で調製された[1]。マイクロエレクトロニクスにおける利用の可能性のために、硫化金属や別の半導体カルコゲニド化合物が注目されている。特にそれらが原子的な薄さのフィルムとして調製されたためである。ただしこれらの多くの方法は、高温を必要とするか、小さな欠陥が生じることもあり、半導体工業では利用できなかった。それに対して液体金属を使うことでこれらを避けることができた。まずフッ素化化合物でパターン化したウエハーサイズの基質にガリウムを沈澱させ、ついで酸化ガリウムを高品質な硫化ガリウムの1.5 nmの厚さのフィルムに変換した。同様の方法を使って大きなIn2S3フィルムもつくられて、それがトランジスタ製作に使われた。ガリウムでがんばり生むです。

[1] Chemical & Engineering News, 2017 February 27, p. 10.

DOI: 10.1038/ncomms14482

17.3.23

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