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深紫外線

 非線形光学(DUV NLO)材料は、半導体工業でより広く利用されており、広い範囲の波長の固体状態のレーザーをつくるためには必要不可欠である。フルオロオキソボレート(KBe2BO3F2)は、200 nm以下の光を発生できる唯一の実用的なレーザー材料であるが、ベリリウム、便利だけど、毒性があってこれを使うのを避けるために別のタイプのレーザー開発が急務だった。その中ここでは、ベリリウムなしのフルオロオキソボレート結晶が開発された[1]。研究者らの戦略は(BO3F)4-(BO2F2)3-、あるいは(BOF3)2-基を三次元のホウ素—酸素ネットワークに組込むことだった。材料は、ベリリウムが無くても期待通り作用した。また採用された合成方法では、末端の酸素原子形成が避けられた。そのため、それが原因の層が積み重なってしまう現象も回避できる。様々な化合物のうちとりわけLi2B6O9F2が有望で、NLO材料に必要なDUVの困難な状況を克服できる可能性も高い。深赤外線のこと、親戚にも教えたい。

[1] Chemical & Engineering News, 2017 March 13, p. 10.

DOI: 10.1002/anie.201700540

17.4.6

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