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量子ドットとしても

 知られる無機ナノクリスタルの表面化学を制御することによって、すべて無機化合物でパターン化した薄膜をつくるフォトリソグラフィープロセスが開発された[1]。通常のリソグラフィーと違って新しい技術は高分子のフォトレジストを必要としない。この方法はエレクトロニクスに適用する場合に、より少ない段階で済み、製造コストも軽減できるために様々な場面に応用できる。これまでのリソグラフィーのパターンニングでは、半導体をマスクする型板刷り込みのフォトレジストを使い光応答させて、与えられた溶媒に溶解するかしないかで作成される。それに対してここでは量子ドットを光に感応するキャッピング配位子で官能基化することによって光感光性の付与を完成させた。ついでコロイド様の量子ドット溶液を多彩な色のインクとして様々な基質に応用し、フィルムの選択した領域をUV光にさらし、そこを特定の溶媒に溶けないようにした。ついで光にさらしていない部分を洗い流した。たとえば赤いCdSe/Zns、緑のInP/ZbS、青いZnSe/ZnS量子ドットすべてをNH4Cs2N3配位子でキャップし、UV光照射で分解して、複雑なパターンが作られている。ありそうでなかったリソグラフィーでした。

[1] Chemical & Engineering News, 2017 July 31, p. 9.

DOI: 10.1126/science.aan2958

17.8.26

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